5奈米可以不用EUV！？日廠領軍！奈米壓印微影(NIL)大突破！

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🏮【科技新未來 EP43】奈米壓印微影(NIL)大突破：不用極紫外光(EUV)也能量產5奈米
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EUV在半導體製程進入7奈米節點之後，是非常重要的光學微影設備，但各位知道一台12吋5奈米極紫外光EUV要高達美金1.5億元，相當於一台F35閃電第二代的價格，是造價非常昂貴的機器，而這次日本記憶體大廠鎧俠(Kioxia)與合作夥伴開發新技術，希望不用極紫外光設備就能生產5奈米晶片，究竟是怎麼一回事，就讓我們來看看！

00:00 開場大綱 | Intro, Summary
01:25 光學微影技術 | Photo lithography
03:01 電子束微影技術 | Electron beam lithography
04:14 奈米壓印微影(NIL)的原理 | Nano Imprint Lithography
07:54 奈米壓印微影(NIL)的進步 | Progress of Nano Imprint Lithography
09:18 為什麼奈米壓印適合製作NAND閘型快閃記憶體？ | Why is Nano Imprint Lithography suitable for making NAND gate flash memory?
11:59 結論 | Conclusion

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【參考資料】
科技新報作者Atkinson
https://technews.tw/2021/10/22/can-go-straight-to-5nm-without-euv/
科技部奈米博物館
https://nano.nstm.gov.tw/nanomuseum/E3_future.html

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